Lithographically Defined Cross-Linkable Top Coats for Nanomanufacturing with High-χ Block Copolymers
Article dans une revue avec comité de lecture
Author

247140 Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
259761 Université de Bordeaux [UB]

40214 Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
1043042 Laboratoire des technologies de la microélectronique [LTM ]

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247140 Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
259761 Université de Bordeaux [UB]

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Date
2021Journal
ACS Applied Materials & InterfacesAbstract
The directed self-assembly (DSA) of block copolymers (BCPs) is a powerful method for the manufacture of high-resolution features. Critical issues remain to be addressed for successful implementation of DSA, such as dewetting and controlled orientation of BCP domains through physicochemical manipulations at the BCP interfaces, and the spatial positioning and registration of the BCP features. Here, we introduce novel top-coat (TC) materials designed to undergo cross-linking reactions triggered by thermal or photoactivation processes. The cross-linked TC layer with adjusted composition induces a mechanical confinement of the BCP layer, suppressing its dewetting while promoting perpendicular orientation of BCP domains. The selection of areas of interest with perpendicular features is performed directly on the patternable TC layer via a lithography step and leverages attractive integration pathways for the generation of locally controlled BCP patterns and nanostructured BCP multilayers.
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- Name:
- PIMM_ACSAMI_CHEVALIER_2021.pdf
- Size:
- 7.479Mb
- Format:
- Embargoed until:
- 2021-08-01
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