Etude de la stabilité thermique et de l’influence de l’épaisseur sur les contraintes de couches de Cr et CrN obtenues par pulvérisation cathodique,

Abstract

Cette étude porte sur des dépôts de couches minces dures de chrome et de nitrures de chrome élaborées par PVD et leur caractérisation. Des films de chrome ont été préparés par pulvérisation cathodique RF. L’influence de l’épaisseur des films, de la puissance appliquée à la cible sur les contraintes résiduelles a été étudiée. L’analyse des contraintes résiduelles par le dispositif des Anneaux de Newton, pour différentes épaisseurs, montre l’existence d’un pic de contraintes entre 170 et 200 nm et ce pour une puissance de l’ordre de 200 W ce qui vérifie d’une part les résultats obtenus lors de précédentes études sur BN, AlN ou ZrBN et d’autre part, le modèle de croissance proposé par Nouveau [1]. En effet des analyses en DRX ont été faites afin de vérifier si un changement de structure avait lieu ou pas en fonction de l’épaisseur des couches. Nous nous sommes ensuite intéressés à la stabilité thermique des couches de CrN. Le suivi de recuits sous azote effectués à différentes températures sur des échantillons revêtus de nitrure de chrome par diffraction X montre que la stabilité thermique de ces films est assurée jusqu’à 800°C.